1972年,武汉无线电元件三厂编写的《光刻掩模版的制造》

　　1972年,武汉无线电元件三厂编写的《光刻掩模版的制造》, 32开66页。

　　中国芯片光刻工艺研究起步,比美国稍晚,跟日本差不多同时起步,比韩国、台湾早10年。1965年中国科学院研制出65型接触式光刻机。

　　1970年代,中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩模工艺。清华大学研制第四代分步式投影光刻机,并在1980年获得成功,光刻精度达到3微米,接近国际主流水平。

 

　　那时光刻机巨头ASML还没诞生。但是很可惜,中国在1980年代放弃电子工业,导致20年技术积累,全部付诸东流。1994年武汉无线电元件三厂破产改制,卖副食品去了。